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【真空鍍膜技術(shù)專(zhuān)業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate：膜層承受體。 試驗(yàn)基片testing substrate：在鍍膜開(kāi)始、鍍膜過(guò)程中或鍍膜結(jié)束后用作測(cè)量和（或）試驗(yàn)的基片。 鍍膜材料coating material：用來(lái)制取膜層的原材料。 蒸發(fā)材料evaporation material：在真空蒸發(fā)中用來(lái)蒸發(fā)的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material：有真空濺射中用來(lái)濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質(zhì))film material：組成膜層的材料。 蒸發(fā)速率evaporation rate：在給定時(shí)間...

【真空鍍膜機(jī)常見(jiàn)故障之旋片泵故障及處理方法】 1、未做保養(yǎng)導(dǎo)致灰塵太多。真空鍍膜設(shè)備在鍍膜過(guò)程中容易產(chǎn)生da量灰塵，這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中，時(shí)間久了容易對(duì)轉(zhuǎn)子及泵腔造成磨損及破壞。 處理方法：如果灰塵不多，可以油過(guò)濾系統(tǒng)除掉灰塵；如果灰塵過(guò)多可以用除塵器配合油過(guò)濾系統(tǒng)除掉灰塵。 2、旋片式真空泵冒煙和噴油：指旋片式真空泵在運(yùn)轉(zhuǎn)中排氣口冒煙或者噴油，冒煙。處理方法：冒煙闡明泵的進(jìn)氣口外，包括管道、閥門(mén)、容器有修理的狀況。 3、噴油，闡明進(jìn)氣口外有da量的漏點(diǎn)，以至是進(jìn)氣口暴露da氣。處理方法：封住泵的進(jìn)氣口使泵運(yùn)轉(zhuǎn)，假如不噴油的話，闡明有漏點(diǎn)；排氣閥片損壞，檢查排氣閥片能否損壞，改換壞...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。 真空鍍膜機(jī)國(guó)內(nèi)有哪些產(chǎn)商？貴州真空鍍膜機(jī)品牌【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計(jì)原則及常用技術(shù)指標(biāo)】 真空設(shè)備設(shè)計(jì)原則：(1)先功能，后結(jié)構(gòu)...

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】 磁控濺射對(duì)陰極濺射中電子使基片溫度上升過(guò)快的缺點(diǎn)加以改良,形成了電場(chǎng)和磁場(chǎng)方向相互垂直的特點(diǎn)。在正交的電磁場(chǎng)的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),從而xianzhu地延長(zhǎng)了電子的運(yùn)動(dòng)路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過(guò)一次碰撞損失一部分動(dòng)能,經(jīng)過(guò)多次碰撞后,喪失了能量成為“*終電子”進(jìn)入離陰極靶面較遠(yuǎn)的弱電場(chǎng)區(qū),*后到達(dá)陽(yáng)極時(shí)已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會(huì)使基片過(guò)熱。同時(shí)高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降...

【真空鍍膜機(jī)之卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)中應(yīng)考慮的問(wèn)題】 ①提高卷繞速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運(yùn)動(dòng)的線速度，它是卷繞機(jī)構(gòu)的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國(guó)內(nèi)早期鍍膜機(jī)卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國(guó)外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國(guó)L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機(jī)已達(dá)到600m/min，可見(jiàn)隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。 ②帶狀基材的線速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要，因?yàn)橹挥芯砝@機(jī)構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對(duì)制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。 ③帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷...

【真空鍍膜機(jī)之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。 適用材料： 1、很多材料可以進(jìn)行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復(fù)合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見(jiàn)用于電鍍表面處理的是鋁材，其次是銀和銅。 2、自然材料不適合進(jìn)行真空電鍍處理，因?yàn)樽匀徊牧媳旧淼乃謺?huì)影響真空環(huán)境。 工藝成本：真空電鍍過(guò)程中，工件需要噴涂，裝載，卸載和再?lài)娡?，所以人力成本相?dāng)高，但是也取決于工件的復(fù)雜度和數(shù)量。 環(huán)境影響：真空電鍍對(duì)環(huán)境污染很小，類(lèi)似于噴涂對(duì)環(huán)境的影響。 真空鍍膜機(jī)的相關(guān)資料。四川真空鍍膜機(jī)常見(jiàn)問(wèn)題與解決辦法【...

【真空鍍膜的分類(lèi)】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。 VM：一般用在化妝品類(lèi)、NB類(lèi)、3C類(lèi)、汽配類(lèi)按鍵、裝飾框、按鍵RING類(lèi)飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。 NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導(dǎo)電，一般用在通訊類(lèi)、3C類(lèi)對(duì)抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類(lèi)飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上，抽的速度會(huì)顯然變慢，當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤(pán)，...

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】 熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤(rùn)性能好、易于揮發(fā)的有機(jī)溶劑中，使之成為飽和溶液；然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面，這一過(guò)程中，為了提升效果、縮短浸泡時(shí)間，可以在抽真空或者加壓條件下對(duì)其進(jìn)行浸泡。如果存在漏孔，熒光劑溶液會(huì)因毛細(xì)作用滲入到其中；qing除表面多余的溶液，待有機(jī)溶劑揮發(fā)后，熒光材料便會(huì)在漏孔中殘留下來(lái)；此時(shí)再用紫外線燈光照射，漏孔位置就會(huì)觀察到明顯的熒光點(diǎn)。 在進(jìn)行紫外光源照射時(shí)，對(duì)于一些存在盲孔、表面不平的器件，可能也會(huì)存在殘留熒光材料，因此玻璃真空器件*好在背面進(jìn)行照射觀察；為了提高對(duì)比...

【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計(jì)原則及常用技術(shù)指標(biāo)】 真空設(shè)備設(shè)計(jì)原則：(1)先功能，后結(jié)構(gòu)。先給出指標(biāo)參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設(shè)計(jì)，后校核。由粗到細(xì)。 鍍膜機(jī)常用技術(shù)指標(biāo)：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復(fù)合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術(shù)參數(shù);設(shè)備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時(shí)間、恢復(fù)真空時(shí)間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機(jī))膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 真空鍍膜...

【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計(jì)原則及常用技術(shù)指標(biāo)】 真空設(shè)備設(shè)計(jì)原則：(1)先功能，后結(jié)構(gòu)。先給出指標(biāo)參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設(shè)計(jì)，后校核。由粗到細(xì)。 鍍膜機(jī)常用技術(shù)指標(biāo)：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復(fù)合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術(shù)參數(shù);設(shè)備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時(shí)間、恢復(fù)真空時(shí)間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機(jī))膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 關(guān)于真空...

【真空鍍膜機(jī)之真空泵的安裝和指導(dǎo)】真空泵安裝指導(dǎo) 1、泵應(yīng)安裝在地面結(jié)實(shí)堅(jiān)固的場(chǎng)所，周?chē)鷳?yīng)留有充分的余地，便于檢查、維護(hù)、保養(yǎng)。 2、泵底座下應(yīng)保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，振動(dòng)小。 3、泵與系統(tǒng)的連接管道應(yīng)密封可靠，對(duì)小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠，對(duì)小泵可采用真空膠管連接，管道管徑不得小于泵吸氣口徑，且要求管路短而少?gòu)濐^。（焊接管路時(shí)應(yīng)qing除管道中焊渣，嚴(yán)禁焊渣進(jìn)入泵腔。） 4、在連接管路中，用戶(hù)可在泵進(jìn)氣口上方安裝閥門(mén)及真空計(jì)，隨時(shí)可檢查泵的極限壓力。 5、按電動(dòng)機(jī)標(biāo)牌規(guī)定連接電源，并接地線和安裝合適規(guī)格的熔斷器及熱繼電器。 6、...

【不同類(lèi)型鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍介紹】不同類(lèi)型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹 1. 磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等 2. 磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車(chē)鋼板、散熱片等 3. 磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域，如太陽(yáng)能集熱管、太陽(yáng)能電池等 4. AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等 5. 觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。 6. 磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。 7. PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，...

【真空鍍膜之絲網(wǎng)印刷】絲網(wǎng)印刷：通過(guò)刮板的擠壓，使油墨通過(guò)圖文部分的網(wǎng)孔轉(zhuǎn)移到承印物上，形成與原稿一樣的圖文。絲網(wǎng)印刷設(shè)備簡(jiǎn)單、操作方便，印刷、制版簡(jiǎn)易且成本低廉，適應(yīng)性強(qiáng)。 常見(jiàn)的印刷品有：彩色油畫(huà)、招貼畫(huà)、名片、裝幀封面、商品標(biāo)牌以及印染紡織品等。 適用材料： 幾乎所有的材料都可以絲網(wǎng)印刷，包括紙張，塑料，金屬，陶藝和玻璃等。 工藝成本：模具費(fèi)用低，但是還是取決于顏色的數(shù)量，因?yàn)槊恳环N顏色都要單獨(dú)制版。人力成本偏高，尤其當(dāng)涉及到多彩印刷。 環(huán)境影響：淺色絲印油墨對(duì)環(huán)境影響較小，然而含有PVC和甲醛的油墨具有有害的化學(xué)物質(zhì)，需及時(shí)回收和處理以防污染水資源。 真空鍍膜機(jī)常見(jiàn)故障及解決方法。河北...

【真空鍍膜機(jī)之卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)中應(yīng)考慮的問(wèn)題】 ①提高卷繞速度的問(wèn)題。卷繞速度即是帶狀基材運(yùn)動(dòng)的線速度，它是卷繞機(jī)構(gòu)的一個(gè)主要技術(shù)指櫟。國(guó)內(nèi)早期鍍膜機(jī)卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國(guó)外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國(guó)L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機(jī)已達(dá)到600m/min，可見(jiàn)隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。 ②帶狀基材的線速恒定問(wèn)題。這一問(wèn)題也很重要，因?yàn)橹挥芯砝@機(jī)構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點(diǎn)對(duì)制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。 ③帶狀基材的跑偏和起褶問(wèn)題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。 真空鍍膜機(jī)類(lèi)型推薦。貴州鏡片真空鍍膜機(jī)【真空鍍膜機(jī)之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬...

【真空鍍膜之陽(yáng)極氧化】陽(yáng)極氧化：主要是鋁的陽(yáng)極氧化，是利用電化學(xué)原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性 適用材料： 鋁、鋁合金等鋁制品 工藝成本：生產(chǎn)過(guò)程中，水、電的消耗是相當(dāng)da的，特別是在氧化工序。機(jī)器本身的熱耗，需要不停地用循環(huán)水進(jìn)行降溫，噸電耗往往在1000度左右。 環(huán)境影響：陽(yáng)極氧化在能效方面不算出色，同時(shí)在鋁電解生產(chǎn)中，陽(yáng)極效應(yīng)還會(huì)產(chǎn)生對(duì)da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。 真空鍍膜機(jī)的相關(guān)資料。北京卷繞式真空鍍膜機(jī)【真空鍍膜機(jī)有哪些污染源】真空鍍膜機(jī)是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經(jīng)過(guò)許多機(jī)械加工流...

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】 常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類(lèi)的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來(lái)分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問(wèn)題。3、鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專(zhuān)門(mén)的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機(jī)的操作培訓(xùn)。廣東真空鍍膜機(jī)價(jià)格【真空鍍膜機(jī)之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從...

【真空鍍膜機(jī)的鍍層與鍍膜原理】 A、原材料與基本原理： 　　原材料都是樹(shù)脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等，輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑，不同的量相調(diào)和，乳化出來(lái)的狀態(tài)就不一樣，水狀、乳狀、膏狀都可以實(shí)現(xiàn)。這些物質(zhì)經(jīng)乳化破乳后，部份滲透或形成薄膜。 B、它們的特點(diǎn)和區(qū)別： 　　鍍層：滲透功能好(要視原材料顆粒da小)，表面光滑度更優(yōu)，對(duì)漆面較多“毛細(xì)孔”、粗糙、重噴過(guò)漆、漆面本身較硬需要增加光亮度的歐美車(chē)系漆面比較適用。 　　鍍膜：而鍍膜產(chǎn)品添加了成膜助劑與固化劑，真空鍍膜廠家使其瞬間成膜，性質(zhì)相應(yīng)的發(fā)生了改變。例如硬度比封釉更高，對(duì)需要提升漆面硬度的漆面(如日韓車(chē)系)比較...

【真空鍍膜機(jī)之真空泵的安裝和指導(dǎo)】真空泵安裝指導(dǎo) 1、泵應(yīng)安裝在地面結(jié)實(shí)堅(jiān)固的場(chǎng)所，周?chē)鷳?yīng)留有充分的余地，便于檢查、維護(hù)、保養(yǎng)。 2、泵底座下應(yīng)保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，振動(dòng)小。 3、泵與系統(tǒng)的連接管道應(yīng)密封可靠，對(duì)小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠，對(duì)小泵可采用真空膠管連接，管道管徑不得小于泵吸氣口徑，且要求管路短而少?gòu)濐^。（焊接管路時(shí)應(yīng)qing除管道中焊渣，嚴(yán)禁焊渣進(jìn)入泵腔。） 4、在連接管路中，用戶(hù)可在泵進(jìn)氣口上方安裝閥門(mén)及真空計(jì)，隨時(shí)可檢查泵的極限壓力。 5、按電動(dòng)機(jī)標(biāo)牌規(guī)定連接電源，并接地線和安裝合適規(guī)格的熔斷器及熱繼電器。 6、...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之氮?dú)鉀_洗】 氮?dú)庠诓牧媳砻嫖綍r(shí)，由于吸附能小，因而吸留表面時(shí)間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮?dú)獾倪@種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng)，可以dada縮短系統(tǒng)的抽氣時(shí)間。如真空鍍膜機(jī)在放入da氣之前，先用干燥氮?dú)獬淙胝婵帐覜_刷一下再充入da氣，則下一抽氣循環(huán)的抽氣時(shí)間可縮短近一半，其原因?yàn)榈钟璧奈侥苓h(yuǎn)比水氣分子小，在真空下充入氮?dú)夂螅肿酉缺徽婵帐冶谖搅?。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿(mǎn)了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時(shí)間縮短了。如果系統(tǒng)被擴(kuò)散泵油噴濺污染了，還可以利用氮?dú)鉀_洗法來(lái)清洗被污染的系統(tǒng).一般是一邊對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行烘烤加熱，一邊用氮?dú)鉀_洗系統(tǒng)，可將油污染...

【真空鍍膜機(jī)之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。 適用材料： 1、很多材料可以進(jìn)行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復(fù)合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見(jiàn)用于電鍍表面處理的是鋁材，其次是銀和銅。 2、自然材料不適合進(jìn)行真空電鍍處理，因?yàn)樽匀徊牧媳旧淼乃謺?huì)影響真空環(huán)境。 工藝成本：真空電鍍過(guò)程中，工件需要噴涂，裝載，卸載和再?lài)娡?，所以人力成本相?dāng)高，但是也取決于工件的復(fù)雜度和數(shù)量。 環(huán)境影響：真空電鍍對(duì)環(huán)境污染很小，類(lèi)似于噴涂對(duì)環(huán)境的影響。 真空鍍膜機(jī)廠家排名。貴州配分子泵的真空鍍膜機(jī)【真空鍍膜機(jī)...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。 真空鍍膜機(jī)品牌排行。江西實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜機(jī)【常見(jiàn)的真空材料表面上的污染物類(lèi)型】 1、油脂：加工、裝配、操作時(shí)沾染上的潤(rùn)滑劑、...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問(wèn)題。3、鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專(zhuān)門(mén)的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機(jī)的培訓(xùn)資料。貴州真空鍍膜機(jī)什么品牌好【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加...

【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】 1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。 方法：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，（ 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。 2.當(dāng)粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續(xù)工作一個(gè)月（雨季減半），需更換新油。 方法：擰開(kāi)放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動(dòng)數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來(lái)。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續(xù)使用半年以上，換油時(shí)應(yīng)將油蓋打開(kāi)，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。 3.在重新開(kāi)機(jī)前，...

【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計(jì)原則及常用技術(shù)指標(biāo)】 真空設(shè)備設(shè)計(jì)原則：(1)先功能，后結(jié)構(gòu)。先給出指標(biāo)參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能；(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整體。再由整體，定局部。(4)先設(shè)計(jì)，后校核。由粗到細(xì)。 鍍膜機(jī)常用技術(shù)指標(biāo)：鍍膜方法：CVD，PVD（蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復(fù)合鍍）；被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術(shù)參數(shù);設(shè)備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時(shí)間、恢復(fù)真空時(shí)間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機(jī))膜厚不均勻程度;功率;*高電壓。 電子束蒸...

【真空鍍膜對(duì)環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?；M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。 　　基片表面污染來(lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。 　　對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在da氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至*小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)...

【常見(jiàn)的真空材料表面上的污染物類(lèi)型】 1、油脂：加工、裝配、操作時(shí)沾染上的潤(rùn)滑劑、切削液、真空油脂等； 2、酸、堿、鹽類(lèi)物質(zhì)：清洗時(shí)的殘余物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等； 3、表面氧化物：材料長(zhǎng)期放置在空氣中或放置在潮濕空氣中所形成的表面氧化物； 4、水基類(lèi)：操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水汽、唾液等； 5、拋光殘?jiān)碍h(huán)境空氣中的塵埃和其它有機(jī)物等。 清洗這些污染物的目的是為了改進(jìn)真空鍍膜機(jī)的工作穩(wěn)定性，使工作能夠更加順利的進(jìn)行。清洗后的表面根據(jù)要求分為原子級(jí)清潔表面和工藝技術(shù)上的清潔表面兩類(lèi)?！?在真空鍍膜機(jī)使用鍍膜材料鍍膜前，對(duì)鍍膜材料做簡(jiǎn)單的表面清潔可以延長(zhǎng)鍍膜機(jī)的使用壽命。因?yàn)楦鞣N污染物不僅使真空...

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場(chǎng)，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級(jí))，濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前*實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputter gun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30- 40%，圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse）， 直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體...

【真空鍍膜機(jī)之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥，用來(lái)連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時(shí)候，機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動(dòng)作。真空鍍膜機(jī)的升級(jí)改造。廣東真空鍍膜機(jī)品牌【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔...