拋光注意事項(xiàng): ● 拋光時(shí)將試樣的磨面應(yīng)均勻地、平正地壓在旋轉(zhuǎn)的拋光盤(pán)上。壓力不宜過(guò)大,并從邊緣到中心不斷地作徑向往復(fù)移動(dòng)。 ● 拋光過(guò)程中要不斷噴灑適量的拋光液。若拋光布上地光液太多,會(huì)使鋼中夾雜物及鑄鐵中的石墨脫落,拋光面質(zhì)量不佳;若拋光液太少,將使拋光面變得晦暗而有黑斑。 ● 后期應(yīng)使試樣在拋光盤(pán)上各方向轉(zhuǎn)動(dòng),以防止鋼中夾雜物產(chǎn)生拖尾現(xiàn)象。 ● 盡量減少拋光面表層金屬變形的可能性,整個(gè)拋光時(shí)間不宜過(guò)長(zhǎng),磨痕全部消除,出現(xiàn)鏡面后,拋光即可停止。試樣用水沖洗或用酒精洗干凈后就可轉(zhuǎn)入浸濕或直接在顯微鏡下觀察。 深圳市新則興科技:金相研磨機(jī)-進(jìn)口金相研磨機(jī)。福州正規(guī)金...
金相試樣研磨之后需要進(jìn)行拋光,以將試樣上研磨過(guò)程產(chǎn)生的磨痕及變形層去掉,使其成為光滑鏡面。目前拋光試樣的方法有機(jī)械拋光、電解拋光、化學(xué)拋光以及復(fù)合拋光等。蕞常用的拋光方式為機(jī)械拋光 化學(xué)拋光:利用化學(xué)溶解作用得到光滑的拋光表面。將試樣浸在化學(xué)拋光液中,進(jìn)行適當(dāng)?shù)臄噭?dòng)或用棉花擦試,一段時(shí)間之后即可得到光亮的表面?;瘜W(xué)拋光兼有化學(xué)腐蝕的作用,能顯示金相組織,拋光后可直接在顯微鏡下觀察。 化學(xué)拋光操作簡(jiǎn)單,成本低廉,不需要特別的儀器設(shè)備,對(duì)原來(lái)試樣表面的光潔度要求也不高。新一代高段設(shè)備,高平整度,解放制樣人員的雙手! 金相研磨機(jī)-什么是金相研磨機(jī)?福州智能金相研磨機(jī)客戶至上 ...
研磨拋光常見(jiàn)缺陷及應(yīng)對(duì)措施--- 1、劃痕 劃痕即是樣品表面上的線性凹槽,是由研磨粒子造成的。 應(yīng)對(duì)措施: ● 確定在粗磨后,試樣座上所有樣品的表面都均勻地布滿同樣的 磨痕花樣; ● 必要時(shí)重新進(jìn)行粗磨; ● 每一道步聚后均應(yīng)仔細(xì)清潔樣品和試樣座,以去掉前一道工序中的大研磨粒子對(duì)磨/拋用具的干擾; ● 如果在現(xiàn)行的拋光工序后仍有前面工序留下的磨痕,請(qǐng)先增加 25~50%的制樣時(shí)間。 2、褶皺 樣品較大區(qū)域發(fā)生的塑性變形稱為褶皺,當(dāng)不恰當(dāng)?shù)厥褂醚心チ?、?rùn)滑劑或拋光布時(shí),或者它們的搭配不合適,都將使...
磨料種類 黑色碳化硅, 氧化鋁 砂紙粒度 預(yù)磨 : 80# 120# 180# 240# 320# 精磨 : 600# 800# 1000# 1200# 1500# 2000# 超精磨 P2500# P4000# P5000# 砂紙直徑 Φ200mm Φ230mm Φ250mm Φ300mm 用戶提出的其他任何尺寸砂紙背面 普通(無(wú)背膠) 帶粘貼后背(PSA) 金相砂紙的用途 做金相分析用的砂紙,另 砂紙的分類有干磨和耐水之分,普通粘結(jié)劑和樹(shù)脂粘結(jié)劑之分,棕剛玉,白剛玉,碳化硅,鋯剛玉等...
020年6月14日,在深圳市新則興科技有限公司總經(jīng)理劉紅祥的帶領(lǐng)下,新則興一行人前往法國(guó)普銳斯(PRESI)位于上海閔行區(qū)的中國(guó)區(qū)總部進(jìn)行為期三天的培訓(xùn)。本次培訓(xùn)的目的在于進(jìn)一步深入學(xué)習(xí)儀器設(shè)備的使用方法,交流探討金相樣品制備過(guò)程中的技巧,學(xué)習(xí)售前、售后服務(wù)中應(yīng)該為客戶提供的幫助,從而在未來(lái)的工作中可以為客戶提供更加專業(yè)、更加成熟的解決方案和樣品處理方法,以及更加詳盡的產(chǎn)品介紹和更加完備的產(chǎn)品售后服務(wù)跟進(jìn)。公司技術(shù)人員深入學(xué)習(xí)了巖相切割研磨一體機(jī)、切割機(jī)、磨拋機(jī)、鑲嵌機(jī)等設(shè)備的使用方法,并在與自深技術(shù)工程師討論的過(guò)程中了解了針對(duì)不同樣品,不同設(shè)備的選擇和相應(yīng)的處理技巧;公司銷售人員則學(xué)習(xí)了面對(duì)...
一、機(jī)械拋光:在專門的拋光機(jī)上進(jìn)行拋光。機(jī)械拋光主要分為兩個(gè)步驟:粗拋和精拋。 粗拋:目的是除去磨光的變形層。 以往粗拋常用的磨料是粒度為10-20μm的α-Al2O3、Cr2O3或Fe2O3,加水配成懸浮液使用。目前,高性能極似天然金剛石懸浮液DS001或高性能人造金剛石懸浮液DS002磨料已逐漸取代了氧化鋁等磨料,因其具有以下優(yōu)點(diǎn): 1)與氧化鋁等相比,粒度小得多的金剛石磨粒,拋光速率要大得多,例如4~8μm金剛石磨粒的拋光速率與10~20μm氧化鋁或碳化硅的拋光速率相近; 2)表面變形層較淺; 3)拋光質(zhì)量比較好。 精拋:又稱終拋,目的是除...
曳尾 當(dāng)樣品與拋光盤(pán)沿同一方向運(yùn)動(dòng)時(shí),曳尾常發(fā)生在析出相或孔洞的周圍。其典型的形狀使其被稱為“曳尾”。 應(yīng)對(duì)措施: ● 拋光期間,樣品和拋光盤(pán)使用相同的旋轉(zhuǎn)速度。 ● 減小拋光用力。 ● 為避免拖尾缺陷的產(chǎn)生制樣時(shí)保持拋光布濕潤(rùn),試樣要不停地移動(dòng),避免長(zhǎng)時(shí)間的拋光 污染 來(lái)源于其他部分而不是樣品本身的雜物,并在機(jī)械研磨或拋光過(guò)程沉積在樣品表面,這種現(xiàn)象稱之為污染。 應(yīng)對(duì)措施: ● 這種試樣重新輕拋即可去除,如果檢查拋光態(tài)試樣,用酒精淋后進(jìn)行吹風(fēng)時(shí),用酒精棉花在試樣面上輕輕擦洗即可。 ● 為了避免出現(xiàn)污染,各道制樣工序后尤其...
邊緣磨圓 當(dāng)使用回復(fù)性高的拋光布時(shí),有時(shí)會(huì)同時(shí)研磨樣品的表面和側(cè)面,這種效應(yīng)稱為邊緣磨圓。果樹(shù)脂的磨損速率大于樣品,則會(huì)出現(xiàn)這種現(xiàn)象。 對(duì)措施: ● 磨制過(guò)程中要保護(hù)好需檢驗(yàn)的邊緣,不要因檢驗(yàn)樣品邊緣而對(duì)樣品邊緣過(guò)度磨制產(chǎn)生倒角; ● 拋光時(shí)試樣需要保護(hù)的一邊朝后,不需保護(hù)的一邊在前,迎著拋光盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的方向進(jìn)行拋光,拋光時(shí)盡可能接近盤(pán)心位置,拋光時(shí)間不宜過(guò)長(zhǎng)。 浮雕 由于不同相的磨損速率和硬度不同而導(dǎo)致不同的材料剝離速率不同,從而產(chǎn)生浮雕。 應(yīng)對(duì)措施: ● 浮雕主要發(fā)生于拋光階段,研磨后的樣品質(zhì)量要高,給拋光提供好的基礎(chǔ)。 ● 拋...