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操作注意事項(xiàng):密閉操作,注意通風(fēng)。操作盡可能機(jī)械化、自動(dòng)化。操作人員必須經(jīng)過(guò)專門培訓(xùn),嚴(yán)格遵守操作規(guī)程。建議操作人員佩戴自吸過(guò)濾式防毒面具(全面罩),穿橡膠耐酸堿服,戴橡膠耐酸堿手套。防止蒸氣泄漏到工作場(chǎng)所空氣中。避免與堿類、活性金屬粉末、玻璃制品接觸。搬運(yùn)時(shí)要輕裝輕卸,防止包裝及容器損壞。配備泄漏應(yīng)急處理設(shè)備。倒空的容器可能殘留有害物。儲(chǔ)存注意事項(xiàng):儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)的庫(kù)房。遠(yuǎn)離火種、熱源。庫(kù)溫不超過(guò)30℃,相對(duì)濕度不超過(guò)85%。保持容器密封。應(yīng)與堿類、活性金屬粉末、玻璃制品分開(kāi)存放,切忌混儲(chǔ)。儲(chǔ)區(qū)應(yīng)備有泄漏應(yīng)急處理設(shè)備和合適的收容材料。監(jiān)測(cè)方法:離子選擇性電極法;氟試劑-鑭鹽比色法。在處理含氫氟酸的制品時(shí),必須按照廠家的說(shuō)明書(shū)進(jìn)行。重慶55%氫氟酸廠商
電子級(jí)氫氟酸生產(chǎn)方法的難點(diǎn):1. 分析控制與產(chǎn)品檢測(cè)要求高。制備電子級(jí)氫氟酸所應(yīng)用的測(cè)試儀器如下: (1)電感耦合等離子高頻質(zhì)譜分析儀( ICP - MS);(2)電感耦合等離子原子發(fā)射分析儀( ICP - AES);(3)原子吸收分光光度計(jì);(4)氧原子發(fā)生無(wú)焰原子吸收分析儀;(5)離子色譜分析儀;(6)激光散射液體微粒計(jì)數(shù)器;(7)水表面雜質(zhì)分析系統(tǒng);(8)原子間力顯微鏡;(9)光學(xué)顯微鏡微粒計(jì)數(shù)器;(10)掃描電子顯微鏡;(11)光學(xué)膜厚測(cè)定和表面仿形儀;(12)表面張力測(cè)定儀;(13) 空氣中塵埃微粒測(cè)定儀;(14)水電阻率測(cè)定儀。2. 對(duì)水質(zhì)要求高,要求水的電阻率≥18.0MΩ·cm。高純水是生產(chǎn)電子氫氟酸中不可缺少的原料,也是包裝容器的清洗劑,其純度將直接影響到電子級(jí)氫氟酸的產(chǎn)品質(zhì)量。高純水的主要控制指標(biāo)是電阻率和固體顆粒,其他輔助指標(biāo)有可氧化的總碳量(TOC)、細(xì)菌、被溶解的二氧化硅、離子濃度等。目前,高純水的生產(chǎn)工藝較為成熟,較常見(jiàn)是先通過(guò)離子交換柱和微過(guò)濾器,得到普通純水,然后再采用反滲透、電滲析等各類膜技術(shù)進(jìn)一步處理,之后配合殺細(xì)菌和超微過(guò)濾便可得到高純水。重慶55%氫氟酸廠商在氫氟酸儲(chǔ)存和使用時(shí),必須注意防止泄漏和溢出。
氫氟酸為氟化工較重要的中間體,上游主要螢石,下游涵蓋制冷劑、氟橡膠、氟樹(shù)脂、氟化鋁、含氟精細(xì)化學(xué)品等。就我國(guó)螢石產(chǎn)量變動(dòng)情況而言,隨著下游氟化工整體需求持續(xù)增長(zhǎng),我國(guó)螢石需求持續(xù)增長(zhǎng),帶動(dòng)國(guó)內(nèi)螢石產(chǎn)量持續(xù)升高。根據(jù)數(shù)據(jù),2021年我國(guó)螢石產(chǎn)量為540萬(wàn)噸,約占全球螢石產(chǎn)量860萬(wàn)噸的62.8%。就我國(guó)螢石進(jìn)出口狀況而言,近十年,我國(guó)螢石進(jìn)口量呈上升趨勢(shì),而出口量震蕩下滑。2018年,進(jìn)口量初次超過(guò)出口量,我國(guó)正式成為螢石凈進(jìn)口國(guó),2020年我國(guó)螢石進(jìn)口明顯高于出口,但是2021年下半年以來(lái),因墨西哥、加拿大兩大礦山因自身原因停產(chǎn),以及全球病情原因,進(jìn)口數(shù)量急劇減少,從整年來(lái)看,我國(guó)螢石進(jìn)口量略低于2020年進(jìn)口,出口量小幅度上升。
電子級(jí)氫氟酸的生產(chǎn)壁壘在于對(duì)金屬離子含量的高標(biāo)準(zhǔn)。半導(dǎo)體中的金屬離 子雜質(zhì)會(huì)影響半導(dǎo)體中少子的壽命、表面的導(dǎo)電性、門氧化物的完整性和穩(wěn)定性 等參數(shù),且金屬離子雜質(zhì)在高溫下或電場(chǎng)下會(huì)向半導(dǎo)體本體擴(kuò)散或在表面擴(kuò)大分 布,導(dǎo)致半導(dǎo)體性能下降,因此氫氟酸對(duì)其中的金屬離子含量有比較嚴(yán)格的要求, 且適用的晶圓半徑越大,制程越好,對(duì)金屬離子含量的要求越高。半導(dǎo)體用的氫 氟酸所有單項(xiàng)金屬雜質(zhì)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)≤0.1μg/L,對(duì)應(yīng) SEMI 為 G4 以上等級(jí)的氫氟 酸,對(duì)應(yīng)國(guó)內(nèi)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)則是 UP-SS 及以上等級(jí)的氫氟酸。對(duì)于現(xiàn)在國(guó)際上主流的 12 寸晶圓,其制造過(guò)程中需要金屬離子含量低于 0.0001μg/L,對(duì)應(yīng) SEMI G5 或者 UP-SSS 標(biāo)準(zhǔn)。在使氫氟酸的過(guò)程中,必須注意安全距離和應(yīng)急預(yù)案。
中國(guó)化工行業(yè)有40多家氫氟酸生產(chǎn)企業(yè)、萬(wàn)噸無(wú)水氟化氫裝置(AHF)總產(chǎn)能的50%以上。主要在擁有或靠近螢石資源的經(jīng)濟(jì)發(fā)達(dá)地區(qū),如浙江、福建、江蘇、山東等省區(qū)。建設(shè)項(xiàng)目和確定上馬的項(xiàng)目主要在浙江、江西、福建、內(nèi)蒙古、四川等。隨著技術(shù)的逐漸成熟,生產(chǎn)規(guī)模的不斷擴(kuò)大,HF生產(chǎn)將不斷擴(kuò)大螢石資源的生產(chǎn)。目前,我國(guó)生產(chǎn)的氟化氫仍以一般工業(yè)產(chǎn)品為主,優(yōu)越產(chǎn)品需要進(jìn)口。我國(guó)氫氟酸出口量逐年增加,特別是2002年,增速更大,與2000年相比,增長(zhǎng)了335.13%。預(yù)計(jì)未來(lái),隨著螢石資源管控力度的加強(qiáng),我國(guó)氫氟酸的國(guó)際市場(chǎng)需求量將繼續(xù)增加。雖然新建或擴(kuò)建的AHF生產(chǎn)廠房仍有一些企業(yè),但要充分滿足國(guó)際國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的需求,還需要一段時(shí)間。氫氟酸的儲(chǔ)存應(yīng)當(dāng)使用專業(yè)容器進(jìn)行,并避免陽(yáng)光直射。遼寧電子級(jí)氫氟酸訂購(gòu)
氫氟酸被稱為較危險(xiǎn)的化學(xué)物質(zhì)之一。重慶55%氫氟酸廠商
濃度低時(shí)因形成氫鍵具有弱酸性,但濃時(shí)(5mol/L以上)會(huì)發(fā)生自偶電離,此時(shí)氫氟酸就是酸性很強(qiáng)的酸了。液態(tài)氟化氫是酸性很強(qiáng)的酸,酸度與無(wú)水硫酸相當(dāng),但較氟磺酸弱。 [3] 腐蝕性強(qiáng),對(duì)牙、骨損害較嚴(yán)重。對(duì)硅的化合物有強(qiáng)腐蝕性。應(yīng)在密閉的塑料瓶?jī)?nèi)保存。用HF(氟化氫)溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗鑄件上的殘砂、控制發(fā)酵、電拋光和清洗腐蝕半導(dǎo)體硅片(與HNO3的混酸)。因?yàn)闅湓雍头娱g結(jié)合的能力相對(duì)較強(qiáng),使得氫氟酸在水中不能完全電離。氫氟酸能夠溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃(主要成分:二氧化硅),生成氣態(tài)的四氟化硅反應(yīng)方程式如下:SiO2(s)+4HF(aq)=SiF4(g)↑+2H2O(l)。重慶55%氫氟酸廠商
昆山豪鑫高化工有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大。公司目前擁有較多的高技術(shù)人才,以不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力,加快企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)健生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)。公司業(yè)務(wù)范圍主要包括:鹽酸、氫氟酸、硝酸,過(guò)氧化氫、硫酸,氫氧化鉀,氫氧化鈉等。公司奉行顧客至上、質(zhì)量為本的經(jīng)營(yíng)宗旨,深受客戶好評(píng)。公司憑著雄厚的技術(shù)力量、飽滿的工作態(tài)度、扎實(shí)的工作作風(fēng)、良好的職業(yè)道德,樹(shù)立了良好的鹽酸、氫氟酸、硝酸,過(guò)氧化氫、硫酸,氫氧化鉀,氫氧化鈉形象,贏得了社會(huì)各界的信任和認(rèn)可。