美國ionpure LXM45ZEDI模塊裝置包括陰/陽離子交換膜、離子交換樹脂、直流電源等設(shè)備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過,不允許陽離子通過,而陽離子交換膜只允許陽離子透過,不允許陰離子通過。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單個(gè)處理單元,并構(gòu)成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰陽電極形成電場。來水水流流經(jīng)淡水室,水中的陰 陽離子在電場作用下通過陰陽離子交換膜被***,進(jìn)入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹脂**地提高了離子被***的速度。同時(shí),水分子在電場作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子,這些離子對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持比較好狀態(tài)。模塊上海純超環(huán)保誠信為本。江西原裝模塊價(jià)格

　　·在給GEEDI模塊連接供水管道之前必須用經(jīng)過濾的合格沖洗水將管道系統(tǒng)徹底沖洗干凈并且將沖洗水排放。因?yàn)槿绻艿纼?nèi)殘余的碎屑或其他顆粒物可能對(duì)模塊導(dǎo)致無法挽回的損害。 　　·EDI啟動(dòng)時(shí)，給水泵應(yīng)該緩慢升壓，從零到穩(wěn)定的運(yùn)行壓力需要1-2分鐘以上，這樣做可防止水錘導(dǎo)致的嚴(yán)重?fù)p壞。在全部供水之前請(qǐng)先緩慢將模塊和系統(tǒng)中的空氣排盡。請(qǐng)勿對(duì)模塊過度加壓。 　　·確保電流開關(guān)及變送器設(shè)置正確并且能夠正常工作。 　　·確保建立了三條水流，并且所有的安全互鎖都經(jīng)過證明：極水排放流，淡水產(chǎn)水流以及濃水排放流。 　　·核實(shí)沒有任何形式的氯或氧化劑進(jìn)入E-Cell?模塊。進(jìn)水必須符合進(jìn)水水質(zhì)要求。 　　·若在進(jìn)水硬度>1ppm(以碳酸鈣計(jì))或者二氧化硅>1ppm，或者其他進(jìn)水水質(zhì)指標(biāo)沒有達(dá)到進(jìn)水水質(zhì)要求，GEEDI模塊將可能被損壞，除非采取特殊防護(hù)措施。如果進(jìn)水硬度或者二氧化硅超標(biāo)，定期的酸洗和對(duì)RO產(chǎn)水進(jìn)行軟化是必需的。江西原裝模塊價(jià)格模塊上海純超環(huán)保按客戶的需求發(fā)貨。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

 ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

 ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 2.

 a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

 b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

 c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

 ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

 ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

　　 　　·EDI啟動(dòng)時(shí)，給水泵應(yīng)該緩慢升壓，從零到穩(wěn)定的運(yùn)行壓力需要1-2分鐘以上，這樣做可防止水錘導(dǎo)致的嚴(yán)重?fù)p壞。在全部供水之前請(qǐng)先緩慢將模塊和系統(tǒng)中的空氣排盡。請(qǐng)勿對(duì)模塊過度加壓。 　　·確保電流開關(guān)及變送器設(shè)置正確并且能夠正常工作。 　　·確保建立了三條水流，并且所有的安全互鎖都經(jīng)過證明：極水排放流，淡水產(chǎn)水流以及濃水排放流。 　　·核實(shí)沒有任何形式的氯或氧化劑進(jìn)入E-Cell?模塊。進(jìn)水必須符合進(jìn)水水質(zhì)要求。 　　·若在進(jìn)水硬度>1ppm(以碳酸鈣計(jì))或者二氧化硅>1ppm，或者其他進(jìn)水水質(zhì)指標(biāo)沒有達(dá)到進(jìn)水水質(zhì)要求，GEEDI模塊將可能被損壞，除非采取特殊防護(hù)措施。如果進(jìn)水硬度或者二氧化硅超標(biāo)，定期的酸洗和對(duì)RO產(chǎn)水進(jìn)行軟化是必需的。模塊上海純超環(huán)保詢問報(bào)價(jià)。

清洗

隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)美國IonpureEDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?

-硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)；

-在離子交換樹脂或膜形成無機(jī)物污垢（例如，硅）；

-在離子交換樹脂或膜形成有機(jī)物污垢；

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢；

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

 美國IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒，消毒說明將同時(shí)提供給用戶。

例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒,消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。 模塊上海純超環(huán)保專業(yè)人員給出建議。江西原裝模塊價(jià)格

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IONPUREEDI模塊作為超純水設(shè)備的主要部件，一旦損壞將直接造成拋光混床樹脂的壽命縮短，增加運(yùn)行成本，嚴(yán)重影響生產(chǎn)。

導(dǎo)致IONPUREEDI模塊故障的主要原因：

 1、IONPUREEDI模塊長期在大電流，低于額定流量情況下運(yùn)行，極板側(cè)積聚的熱量得不到有效散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片和隔網(wǎng)較早發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量下降，嚴(yán)重會(huì)碳化漏水。

 2、IONPUREEDI模塊長期沒有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電流無法調(diào)節(jié)，電壓上升。 江西原裝模塊價(jià)格

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