西門子模塊，到目前為止，擁有EDI領(lǐng)域的**75項(xiàng)以上。以其在各方面超前的技術(shù)、優(yōu)異的產(chǎn)品性能，被國(guó)際、國(guó)內(nèi)**公司廣泛應(yīng)用于電力、電子、化工、醫(yī)藥等各個(gè)行業(yè)。

西門子模塊系統(tǒng)特點(diǎn)：

  1、西門子模塊的系統(tǒng)無(wú)濃水循環(huán)不須加鹽，無(wú)極水排放，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單；

  2、西門子模塊的智能化整流電源充分發(fā)揮模塊技術(shù)性能，安全可靠；

  3、西門子模塊的濃水樹(shù)脂**技術(shù)提高離子遷移速度，系統(tǒng)能耗?。?

  4、西門子模塊的淡水樹(shù)脂分層技術(shù)使非導(dǎo)電離子遷移，出水品質(zhì)高；

  5、西門子模塊的成熟的回流技術(shù)減小前段波動(dòng)影響，出水品質(zhì)穩(wěn)定；

  6、西門子模塊的大通道隔板和**的樹(shù)脂處理技術(shù)，抗污染能力強(qiáng)；

  7、西門子模塊的豐富的現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)優(yōu)化管道布置技巧，便于使用維護(hù)；

  8、西門子模塊的特殊的密封工藝和優(yōu)良的膜性能，延長(zhǎng)了使用壽命；

  9、西門子模塊的標(biāo)準(zhǔn)化的規(guī)范工藝，降低設(shè)備維護(hù)和人員培訓(xùn)成本。

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(1) 西門子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 上海銷售模塊種類模塊上海純超環(huán)保滿足客戶的不同需求。

美國(guó)Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況：

   1、美國(guó)Ionpure LXM30Z EDI模塊長(zhǎng)期在大電流，小流量運(yùn)行，積聚的熱量得不到散發(fā)，造成EDI接近兩極的膜片發(fā)熱變形,EDI濃水壓差增大，水質(zhì)和水量都不同程度的下降。

   2、美國(guó)Ionpure LXM30Z EDI模塊長(zhǎng)期沒(méi)有清洗保養(yǎng)，EDI的膜片和通道結(jié)鈣鎂垢，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無(wú)法調(diào)節(jié)，**終無(wú)法使用。

    3、美國(guó)Ionpure LXM30Z EDI模塊長(zhǎng)期沒(méi)有清洗保養(yǎng)或長(zhǎng)期停機(jī)沒(méi)有保護(hù)，EDI的膜片和通道滋生有機(jī)物，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流無(wú)法調(diào)節(jié)，**終無(wú)法使用。

如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹(shù)脂會(huì)更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動(dòng),直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過(guò)程中,出水電導(dǎo)會(huì)發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會(huì)向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動(dòng),表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過(guò)出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來(lái)實(shí)現(xiàn),并可以通過(guò)工作區(qū)間的移動(dòng)來(lái)解釋。

    濃水流量的變化是另一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對(duì)于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對(duì)去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會(huì)飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 模塊上海純超環(huán)保歡迎選購(gòu)。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

 ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

 ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

 注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

 ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 2.

 a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

 b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

 c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

 ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來(lái)說(shuō)，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過(guò)。

 ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

 ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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運(yùn)用技術(shù)編輯 GEEDI模塊采用了濃水循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)，濃水室加鹽主要影響是可減少濃水室中Ca2+&Mg2+攜帶電流的機(jī)會(huì)，降低Ca2+&Mg2+流動(dòng)通量、降低結(jié)垢的速率;次要影響是增加濃水室的離子強(qiáng)度，增加對(duì)垢類的溶解、降低垢類形成的機(jī)會(huì)。因此，具有產(chǎn)水量高、產(chǎn)水品質(zhì)穩(wěn)定、性能可控性強(qiáng)、低能耗的特點(diǎn)。 　　GEEDI模塊常與RO連用,構(gòu)成RO-EDI純水系統(tǒng)。EDI已設(shè)計(jì)成標(biāo)準(zhǔn)模塊,EDI單元就是由若干模塊組合而成。每個(gè)GEEDI模塊有數(shù)個(gè)雙腔室?jiàn)A在兩個(gè)電極(加直流電)之間,呈層疊式板框結(jié)構(gòu);雙腔室包括淡水腔(用D表示)和濃水腔(用C表示);二腔之間隔以一對(duì)陰、陽(yáng)離子膜(亦稱陰向膜或陽(yáng)向膜),陰、陽(yáng)膜間裝填陰陽(yáng)樹(shù)脂混合床構(gòu)成D室;該陰、陽(yáng)膜分別與另一D室中的陽(yáng)、陰膜間構(gòu)成C室。四川廠家供應(yīng)模塊種類

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