(1) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門(mén)子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。

(2) 西門(mén)子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保滿足客戶(hù)的不同需求。上海供應(yīng)美國(guó)IONPURE EDI模塊推薦廠家

清洗 隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)美國(guó)Ionpure EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?- 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)； - 在離子交換樹(shù)脂或膜形成無(wú)機(jī)物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹(shù)脂或膜形成有機(jī)物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國(guó)Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒，消毒說(shuō)明將同時(shí)提供給用戶(hù)。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。浙江全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊購(gòu)買(mǎi)美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保售后服務(wù)。

美國(guó)Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料；

2、美國(guó)IonpureIP-LXM45ZEDI模塊膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜；

3、采用進(jìn)口EDI**均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)EDI**均粒樹(shù)脂；

4、美國(guó)IonpureIP-LXM45Z EDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)；

5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件；

7、美國(guó)IonpureIP-LXM45Z EDI模塊出廠比較高試壓7bar不漏水；

8、美國(guó)IonpureIP-LXM45Z EDI模塊電阻低、功耗小；

9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)；

10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H；

11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、無(wú)死角。

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進(jìn)EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹(shù)脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹(shù)脂破碎，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、西門(mén)子EDI模塊系統(tǒng)手動(dòng)運(yùn)行時(shí)，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹(shù)脂的發(fā)熱碳化，清洗無(wú)效，無(wú)法使用。

  6、西門(mén)子EDI模塊進(jìn)水前無(wú)保安濾器，或安裝時(shí)沒(méi)有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進(jìn)出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無(wú)效。

  7、出廠時(shí)產(chǎn)品不合格，使用一段時(shí)間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保指導(dǎo)安裝。

3、原水水質(zhì)的優(yōu)劣程度，純凈水產(chǎn)量的大小直接影響RO膜的使用壽命，為保證RO膜正常工作，需要對(duì)RO膜進(jìn)行定期維護(hù)，此項(xiàng)工作必須由專(zhuān)業(yè)人員或在專(zhuān)業(yè)人員的授意下完成，非專(zhuān)業(yè)人員或未征得專(zhuān)業(yè)人員授意不得擅自清洗、拆卸、對(duì)RO膜進(jìn)行隨意處理。如若非經(jīng)本廠專(zhuān)業(yè)人員授意，隨意拆卸高、增壓泵，斷水保護(hù)，反滲透系統(tǒng)等主機(jī)主要部件，造成損壞的，本廠概不負(fù)責(zé)。

 4、設(shè)備閑置時(shí)，必須斷水?dāng)嚯?，放凈設(shè)備內(nèi)所有積水，設(shè)備不得在高溫與零下溫度的環(huán)境內(nèi)放置。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來(lái)說(shuō)，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過(guò)。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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上海純超環(huán)?？萍加邢薰臼且患矣兄酆駥?shí)力背景、信譽(yù)可靠、勵(lì)精圖治、展望未來(lái)、有夢(mèng)想有目標(biāo)，有組織有體系的公司，堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來(lái)的道路上大放光明，攜手共畫(huà)藍(lán)圖，在上海市市轄區(qū)等地區(qū)的環(huán)保行業(yè)中積累了大批忠誠(chéng)的客戶(hù)粉絲源，也收獲了良好的用戶(hù)口碑，為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ)，也希望未來(lái)公司能成為*****，努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量，我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息，斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將**上海純超環(huán)?？萍己湍黄饠y手步入輝煌，共創(chuàng)佳績(jī)，一直以來(lái)，公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針，員工精誠(chéng)努力，協(xié)同奮取，以品質(zhì)、服務(wù)來(lái)贏得市場(chǎng)，我們一直在路上！