真空鍍膜的運作原理：相沉積(PhysicalVaporDeposition，PVD)技術(shù)表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。真空鍍膜方法真空鍍膜常用的方法有真空蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍膜3種。圖1為3種常見真空鍍膜法的原理示意圖。真空蒸發(fā)鍍膜在真空環(huán)境下加熱鍍膜材料，使它在極短時間內(nèi)蒸發(fā)，蒸發(fā)了的鍍膜材料分子沉積在塑料表面上形成鍍膜層。此法簡單便利、操作容易、成膜速度快、效率高，是薄膜真空制備中較為廣使用的技術(shù)，但薄膜與基體結(jié)合較差，工藝重復(fù)性不好，只能蒸發(fā)鋁這樣的低熔點金屬。挑選真空鍍膜設(shè)備廠家來無錫光潤真空！河南品牌真空鍍膜機價格

因此真空鍍膜機鍍膜時，膜層的好壞，氣體啟著關(guān)鍵性的作用，是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。PVD鍍膜涂層常用置配：彩色系膜層和常規(guī)色膜層較大的區(qū)別就是C值和H值，所以可以說，黑色也是彩色系膜層。鋯＋氮氣：黃綠調(diào)金黃色鋯＋甲烷：深淺黑色鋯＋氧氣：白色、透明膜鋯＋氮氣＋甲烷：金色、仿玫瑰金鉻＋甲烷：深淺黑色鉻＋氮氣：淺黑色鉻＋氮氣＋甲烷：銀灰色鉻＋氧氣：輕黃色、紫色、綠色SUS＋氧氣：紫色SUS＋氮氣：藍色SUS＋甲烷：亮黑色SUS＋甲烷＋氮氣：藍黑色河南新款真空鍍膜機價格蘇州專業(yè)真空鍍膜機供應(yīng)商！

陽極層離子源若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應(yīng)用于光學(xué)鍍膜并不太多?？挤蚵x子源考夫曼離子源是應(yīng)用較早的離子源。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內(nèi)腔產(chǎn)生等離子體，讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產(chǎn)生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可較廣應(yīng)用于真空鍍膜中。缺點是陰極（往往是鎢絲）在反應(yīng)氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，對需要大離子流量的用戶可能不適和。

在離子源推進器實驗中，人們發(fā)現(xiàn)有推進器材料從離子源飛出，這就開始了離子源在材料，特別是材料表面改性的應(yīng)用。離子源的另一個重要應(yīng)用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產(chǎn)生某種材料的離子，這個離子就在磁性環(huán)路上加速，從而轟擊一個靶，產(chǎn)生新的物質(zhì)或揭示新的物理規(guī)律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源，弧放電離子源，kaufman離子源，射頻離子源，霍爾離子源，冷陰極離子源，電子回旋離子源，陽極層離子源，感應(yīng)耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結(jié)合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。真空鍍膜機專業(yè)供應(yīng)商！

霍爾離子源霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）?；魻栯x子源的特點是：1簡單耐用。2離子電流與氣體流量幾乎成比例，可獲得較大離子電流。3鎢絲一般橫跨在出口，收離子束沖擊很快會銷蝕，尤其對反應(yīng)氣體，一般十幾個小時就需更換。并且鎢絲還會有一定的污染。為解決鎢絲的缺點。有采用較長壽中和器的，如一個小的空心陰極源?；魻栯x子源可以說是應(yīng)用較廣的離子源。如Veece的MarkI和MarkII離子源。適用的如國產(chǎn)的大部分離子源。如果鍍耐磨裝飾膜，膜厚大，需要與機體結(jié)合力強，而均勻性要求不高。可用霍爾離子源。其離子電流大，且離子能級也高。如果是鍍光學(xué)膜，則主要要求離子電流能級集中，離子電流均勻性好。故建議用Kaufman或RF離子源，有條件的可采用ECR（電子回旋）或ICP(感應(yīng)耦合)離子源。另外，也要考慮到耗材，如用鎢絲的霍爾源在反應(yīng)氣體中十來個小時就燒斷了。而離子源如ICP離子源可在反應(yīng)氣體中連續(xù)工作幾百小時。真空鍍膜機采購，優(yōu)先無錫光潤！安徽品牌真空鍍膜機直銷

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蒸發(fā)式真空鍍膜機的工作原理：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法較早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之知一。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)專源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的屬距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。簡言之，蒸發(fā)式真空鍍膜機的工作原理就是真空室內(nèi)利用電阻加熱法，把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。河南品牌真空鍍膜機價格

無錫光潤真空科技有限公司（簡稱“光潤真空”）是從事真空鍍膜設(shè)備研發(fā)、設(shè)計、銷售、制造、服務(wù)于一體的綜合性科技公司。

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