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制造復(fù)合集流體怎么用

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-03-31

什么是復(fù)合集流體?金屬導(dǎo)電層-高分子材料支撐層-金屬導(dǎo)電層”三明治結(jié)構(gòu)的新型材料對(duì)于鋰離子電池來(lái)說(shuō),通常使用的正極集流體是鋁箔,負(fù)極集流體是銅箔。復(fù)合集流體采用“金屬-高分子材料-金屬”三層復(fù)合結(jié)構(gòu),通過(guò)真空蒸鍍、磁控濺射等方式在高分子PET/PP膜表面形成納米級(jí)金屬,再通過(guò)水電鍍將金屬層沉積增厚到1μm以上。復(fù)合銅箔:在塑料薄膜PET、PP、PI等材質(zhì)表面上先采用真空濺射的方式,制作一層金屬導(dǎo)電層,然后采用離子置換或其它的方式,將銅層加厚到1微米或以上厚度,而制作而成的一種新型材料。復(fù)合鋁箔:是一種以聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)等材質(zhì)作為基礎(chǔ)材料,并在其正反兩面上采用先進(jìn)的真空鍍膜工藝沉積金屬鋁層而制成的一種新型復(fù)合材復(fù)合集流體的生產(chǎn)廠家。制造復(fù)合集流體怎么用

傳統(tǒng)銅箔采用電解工藝,傳統(tǒng)鋁箔采用壓延工藝傳統(tǒng)銅箔又叫電解銅箔,工序包括電解溶銅、電解、表面處理、分切。主要生產(chǎn)流程是將銅材溶解后制成硫酸銅電解液,然后在電解設(shè)備中將硫酸銅電解液通過(guò)直流電電沉積而制成箔,再對(duì)其進(jìn)行表面粗化、防氧化等處理,經(jīng)分切、檢測(cè)后制成成品并包裝,共包括溶銅造液工序、生箔工序、后處理工序和分切工序四個(gè)生產(chǎn)工序。傳統(tǒng)鋁箔上游是電解鋁,**工序包括熔煉、軋制、鑄軋、切邊、退火等。熔煉是指將鋁錠通過(guò)加熱的方式,使其達(dá)到熔化溫度并進(jìn)行熔體的成分配比、凈化處理的過(guò)程;軋制是指軋輥與軋件相互作用時(shí),軋件被軋輥拉進(jìn)旋轉(zhuǎn)的軋常用復(fù)合集流體性能無(wú)錫光潤(rùn)專注于復(fù)合集流體。

復(fù)合集流體能量密度提升。電池能量密度的提升一方面通過(guò)增加單位克容量并降低非活性物質(zhì)的重量,由上表可以看出復(fù)合集流體密度上更小、厚度減薄,同等厚度下,復(fù)合集流銅鋁箔單位重量分別減少63%、36%。體積能量密度提升。體積能量密度主要體現(xiàn)在厚度的減薄上,復(fù)合銅箔厚度變化不大,復(fù)合鋁箔厚度減薄33%。安全性。傳統(tǒng)純金屬集流體的硬度較大,一旦產(chǎn)生毛刺容易刺穿隔膜形成短路;因復(fù)合集流體中間高分子材料層具有抗拉伸斷裂強(qiáng)度高、質(zhì)地軟、鍍層薄的優(yōu)點(diǎn),所以不容易出現(xiàn)毛刺,即便出現(xiàn)毛刺,也會(huì)因?yàn)橘|(zhì)地軟鍍層薄刺穿隔膜的可能性比較小,能很好的防止電池內(nèi)部的短路,提升電池安全性;且高

箔降本效應(yīng)明顯(理論可降本50%),若未來(lái)量產(chǎn)問(wèn)題解決,我們預(yù)計(jì)可大規(guī)模替代傳統(tǒng)銅箔。我們預(yù)計(jì)25年復(fù)合銅箔滲透率達(dá)20%,全球需求量達(dá)45億平,單價(jià)按4.6元/平,市場(chǎng)空間達(dá)206億元。復(fù)合鋁箔:復(fù)合鋁箔降本效應(yīng)一般,但量產(chǎn)進(jìn)展(金美22年11月已經(jīng)量產(chǎn))+安全性+輕薄化(鋁箔厚度從12下降至2微米),我們預(yù)計(jì)可在消費(fèi)、動(dòng)力領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)一定程度替代,預(yù)計(jì)25年滲透率達(dá)10%,全球需求量達(dá)21億平,單價(jià)按4.1元/平,市場(chǎng)空間達(dá)86億元。復(fù)合集流體賽道呈現(xiàn)出0-1(行業(yè)+公司)、技術(shù)路線眾多且尚處于優(yōu)化中、暫時(shí)*有理論經(jīng)濟(jì)性尚未實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)經(jīng)濟(jì)性的特點(diǎn)。復(fù)合集流體生產(chǎn)顛覆傳統(tǒng)集流體生產(chǎn)復(fù)合集流體到底是什么?無(wú)錫光潤(rùn)為您揭曉。

復(fù)合集流體的量產(chǎn)化難點(diǎn)在于設(shè)備、工藝,工藝目前可分為兩步法(磁控濺射—水電鍍)和三步法(磁控濺射—蒸鍍—水電鍍)。其中真空磁控濺射技術(shù)是復(fù)合銅箔制造工藝的,其原理是用氬離子(Ar+)轟擊銅合金靶材,使靶材發(fā)生濺射,在濺射粒子中,中性的銅原子或部分銅離子沉積在基膜上形成薄膜。但真空磁控濺射工藝對(duì)設(shè)備要求較高,是影響產(chǎn)品良率和性能的關(guān)鍵,目前磁控濺射設(shè)備目前仍然以進(jìn)口為主,成本較高。且磁控濺射沉積銅的效率相對(duì)于真空蒸鍍和水電鍍較低,是影響產(chǎn)線線速度的主要環(huán)節(jié)。風(fēng)復(fù)合集流體的生產(chǎn)廠家哪里找?機(jī)械復(fù)合集流體特點(diǎn)

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不過(guò),由于銅箔需要保持一定機(jī)械強(qiáng)度,因此集流體不可能無(wú)限減薄。而且過(guò)薄的集流體,在電池循環(huán)過(guò)程中易發(fā)生集流體的變形斷裂,從而導(dǎo)致安全問(wèn)題,超薄銅箔的加工費(fèi)也十分昂貴,導(dǎo)致整體成本不降反增。此背景下,復(fù)合集流體成為該領(lǐng)域突破的新技術(shù)路徑。復(fù)合集流體區(qū)別于傳統(tǒng)金屬集流體地,而是增加了其他成分的復(fù)合箔材,目前具備應(yīng)用前景的是“金屬-高分子材料-金屬”三明治結(jié)構(gòu)的復(fù)合集流體,中間層可選擇PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)、PP(聚丙烯)、PI(聚酰亞胺)等高分子材料。目前復(fù)合集流體中采用的高分子層厚度一般約4um,上下兩層銅層厚度各1um,合計(jì)約6um。制造復(fù)合集流體怎么用

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