在共晶過程中，焊料的浸潤性、施加壓力的大小從而影響焊接質(zhì)量，造成空洞率過高、芯片開裂等問題導致共晶失敗。共晶后空洞率是一項重要的檢測指標，如何降低空洞率是共晶的關(guān)鍵技術(shù)。消除空洞的主要方法有：（一）共晶前可使用微波等離子清潔基板與焊料表面，增加焊料的浸潤性；基板和焊料的清洗方案，推薦使用晟鼎的微波等離子清洗機，可在現(xiàn)有的工藝制程中，直接導入微波等離子清洗，簡單方便，快速提升良品率。（二）共晶時在器件上放置加壓裝置，直接施加正壓；共晶壓力參數(shù)設置，需多次實驗得出適當?shù)闹?，壓力過大、過小都不利于工藝控制及焊接可靠性。大氣等離子清洗機，適用于各種平面材料清洗，在動力電池領域，可搭配旋轉(zhuǎn)頭使用。吉林寬幅等離子清洗機歡迎選購

等離子清洗能否去除雜質(zhì)和污染？原則上等離子清洗是不能去除大量的雜質(zhì)的污染物。低壓等離子清洗機是一種經(jīng)濟的表面處理方式，一致性好,完全安全,干凈。只從處理部分去除表面的污染物，不影響其它部分材料屬性。等離子體處理過程在電路板行業(yè)被廣使用,。等離子體處理比其他表面清洗技術(shù)提供了重要的優(yōu)勢。它適用于大范圍的材料(金屬、塑料、玻璃、陶瓷等)。它是環(huán)保的選擇。等離子體清洗不需要有害化學溶劑。節(jié)約成本，可不需要解決其他處理方法對環(huán)境危害的問題。氧氣體通常是一個合適的氣體。溶劑處理后會留下剩余物，等離子清洗能夠提供一個完全無殘留的產(chǎn)品。處理消除了脫模劑、抗氧化劑、碳殘留物,油,和所有種類的有機化合物。吉林寬幅等離子清洗機歡迎選購等離子處理通過在介質(zhì)中產(chǎn)生等離子體，利用等離子體的高能離子轟擊表面，從而改變表面性質(zhì)。

大氣等離子清洗機，適用于各種平面材料清洗，廣泛應用于3C消費電子行業(yè)，有效提高增強產(chǎn)品表面附著力，提高粘接、點膠、貼合質(zhì)量，提高產(chǎn)品良率。SPV-100 真空等離子清洗機，氣體通過激勵電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，有效提高產(chǎn)品表面活性，增強附著性能。?產(chǎn)品冶具靈活多變，適應不規(guī)則產(chǎn)品?水平電極設計，滿足軟性產(chǎn)品處理需求?低耗能、耗氣產(chǎn)品?真空系統(tǒng)集成，占地面積小?合理的等離子反應空間，處理更均勻?集成的控制系統(tǒng)設計，使操作更方便

等離子清洗機在多個領域都展現(xiàn)出了其獨特的優(yōu)勢和應用價值。在微電子領域，等離子清洗技術(shù)被廣泛應用于半導體芯片、集成電路和封裝等制造過程中，以確保產(chǎn)品表面的清潔度和活性，提高產(chǎn)品的可靠性和性能。在光學領域，等離子清洗機被用于光學鏡片、濾光片和光電子器件的清潔和表面處理，以提高光學性能和透光率。此外，在生物醫(yī)學領域，等離子清洗機在醫(yī)療器械、生物傳感器和藥物載體的制造過程中發(fā)揮著重要作用，能夠確保醫(yī)療產(chǎn)品的無菌性和生物相容性。在航空航天領域，等離子清洗技術(shù)則用于飛機和航天器的表面清潔和涂層處理，以提高材料的耐候性和抗腐蝕性。寬幅等離子適用于各種平面材料的清洗活化，搭配等離子發(fā)生裝置，可客制化寬幅線性等離子流水線設備。

FPCB在鐳射切割后，把切割好的FPCB排列在無痕粘板上，進行寬幅等離子清洗（plasma）。FFPCB板在處理前測試的水滴角平均在71至75度左右，經(jīng)過寬幅等離子處理后，水滴角平均在20度以后，而行業(yè)需求在30度以內(nèi)。寬幅等離子在這個步驟所起到的作用是，清楚產(chǎn)品表面的有機層，活化表面，使產(chǎn)品從疏水性轉(zhuǎn)變成親水性。等離子清洗機是一種非常有效的清洗攝像頭模組的設備，可以提高清洗效率和清洗質(zhì)量，同時還可以減少損傷率，延長模組的使用壽命。特別是寬幅等離子清洗機，更是可以同時清洗多個模組，提高了生產(chǎn)效率和經(jīng)濟效益。相信在不久的將來，等離子清洗機將會在各行各業(yè)中得到更廣泛的應用。手機組裝粘接前、中框粘接前、蓋板粘接前通過大氣等離子處理，可有效增強表面附著力，提高粘接質(zhì)量。安徽寬幅等離子清洗機廠商

等離子清洗機是解決PECVD工藝石墨舟殘留氮化硅問題的有效手段。吉林寬幅等離子清洗機歡迎選購

首先，等離子清洗機通過射頻電源在充有一定氣體的腔內(nèi)產(chǎn)生交變電場，這個電場使氣體原子起輝并產(chǎn)生無序的高能量的等離子體。這些等離子體中的帶電粒子在電場的作用下，會轟擊石墨舟表面的氮化硅薄膜。其次，等離子體中的高能量粒子可以與氮化硅薄膜發(fā)生化學反應，將其轉(zhuǎn)化為氣態(tài)物質(zhì)。這個過程主要是通過等離子體中的活性物種與氮化硅薄膜進行反應，將氮化硅分子分解為氣態(tài)的氮和硅的化合物。***，這些氣態(tài)物質(zhì)會被機械泵抽走，從而實現(xiàn)石墨舟表面的清洗。由于等離子體清洗是在干法環(huán)境下進行，因此可以避免濕法清洗帶來的環(huán)境污染問題，同時清洗效率也**提高。吉林寬幅等離子清洗機歡迎選購