亚洲日韩国产二区无码,亚洲av永久午夜在线观看红杏,日日摸夜夜添夜夜添无码免费视频,99精品国产丝袜在线拍国语

蒸發(fā)閘閥三星半導(dǎo)體

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-10-12

微泰主要產(chǎn)品有1、-手動鎖定閥:操作鎖定按鈕關(guān)閉正在抽吸中的切斷閥門切斷現(xiàn)象的源頭:2、特殊閥門:全金屬配件構(gòu)成,由電磁閥+傳感器+D-Sub+角閥組成;3、三位閥:半開功能的壓力控制閥。氣動閘閥:?產(chǎn)品范圍:1.5~30英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;手動(鎖定)閘閥?產(chǎn)品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次;專門用閘閥:產(chǎn)品范圍:1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次,響應(yīng)時(shí)間:0.2秒客戶指定的法蘭,可安裝角閥;三位閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):20萬次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。非金屬材料高壓閘閥有陶瓷閥門、玻璃閥門、塑料閥門。蒸發(fā)閘閥三星半導(dǎo)體

閘閥

半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案,真空插板閥品牌—微泰??刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備中的主要閥門??刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用,通過控制系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)閘板的開啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作,而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。三防閘閥L型轉(zhuǎn)移閥閘閥體內(nèi)設(shè)一個(gè)與介質(zhì)流向成垂直方向的平面閘板,靠這一閘板的升降來開啟或關(guān)閉介質(zhì)的通路。

蒸發(fā)閘閥三星半導(dǎo)體,閘閥

微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當(dāng)閘板升起時(shí),閘閥打開,允許流體通過;當(dāng)閘板降下時(shí),閘閥關(guān)閉,阻止流體通過。在具體工作中,它利用各種機(jī)構(gòu)和設(shè)計(jì)來實(shí)現(xiàn)精確的控制和可靠的密封,以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對工藝控制的要求。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?/p>

微泰,屏蔽閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? 濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)? Coating(涂層)? Etch? Diffusion?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是*閥體和阻斷器之間的間隙小于1mm*防止流入的氣體(粉末)進(jìn)入閥體內(nèi)部*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵,氣流中的高水平工藝。屏蔽閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:2.5英寸~ 10英寸、法蘭類型:ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:2.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績?yōu)榱吮苊庠陬w粒敏感應(yīng)用中產(chǎn)生顆粒,滑動閘門機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)旨在避免閥殼處的摩擦。

蒸發(fā)閘閥三星半導(dǎo)體,閘閥

微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外,它極大限度地減少了由于閘板打開和關(guān)閉造成的真空壓力變化,使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉(zhuǎn)移閥。I型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成,用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點(diǎn)是葉片在垂直方向上快速移動,確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu),保證高耐用性和長壽命。二、L型轉(zhuǎn)移閥。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造,其特點(diǎn)是設(shè)計(jì)緊湊,易于維護(hù)。L型轉(zhuǎn)移閥的特點(diǎn)是閘門在兩個(gè)階段從垂直到水平方向移動,確保完美的腔室壓力維護(hù)。它的內(nèi)部機(jī)構(gòu),包括一個(gè)LM導(dǎo)向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營地結(jié)構(gòu),保證了高耐用性和長壽命,同時(shí)提供穩(wěn)定和精確的運(yùn)動。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開啟和關(guān)閉過程中極大限度地減少了振動,并且對溫度變化非常穩(wěn)定,確保了較長的使用壽命。此外,即使長時(shí)間使用柵極,它們產(chǎn)生的顆粒也很少,從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新,在開發(fā)先進(jìn)的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。微泰,高壓閘閥應(yīng)用于? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。閘閥法蘭閘閥

真空閘閥的設(shè)計(jì)具有獨(dú)特的特征。它們具有堅(jiān)固的結(jié)構(gòu),通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。蒸發(fā)閘閥三星半導(dǎo)體

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,插板閥,氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥-按產(chǎn)品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸,ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現(xiàn)有手動閘閥的鎖定功能(Exist Manual GV of Locking Function)。微泰氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。蒸發(fā)閘閥三星半導(dǎo)體