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HVA閘閥ALUMINUM GATE VALVE

來源: 發(fā)布時間:2024-10-06

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。這節(jié)介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥,加熱器插入閘閥:產品范圍:2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:20萬次?響應時間:0.2秒~3秒;客戶指定法蘭,加熱溫度:450℃;蝶形閥;蝶閥:產品范圍:DN40、DN50隔離?泄漏率:1.0E-9mbar·l/秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司這些真空閥可以手動、氣動或電子方式驅動,從而可以根據具體應用進行多功能控制。HVA閘閥ALUMINUM GATE VALVE

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微泰,大閘閥、大型閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸(內徑):16? ~ 30?、 法蘭型:ISO、JIS、ASA 、饋通:Viton O-Rin、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:可調節(jié)、工作壓力范圍:1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護前可用次數:10,000 ~ 100,000次、開啟時壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。 屏蔽閘閥楔式閘閥真空閘閥的設計具有獨特的特征。它們具有堅固的結構,通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。

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微泰,三(多)位閘閥、三位閘閥、多位閘閥應用于? 蒸發(fā)?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴散?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶹AT閘閥。其特點是*3個位置功能-閥門打開,閥門關閉,第3位置*設備可通過連接到閥門的9 Pin D-Sub來讀取閥門狀態(tài)*手動和氣動閥門組合*應用:需要壓力控制的任何其他過程*應用:需要壓力控制的地方。三位閘閥、多位閘閥規(guī)格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸:2.5英寸~ 12英寸、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,一、控制系統閘閥。控制系統閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用。控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構,通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能,以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領域。采用手動調節(jié)控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開啟和關閉,以調節(jié)壓力。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。用真空閘閥時,應考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護要求等因素。

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微泰半導體閘閥具有諸多特點:首先,它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來西亞的英菲尼亞半導體,日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨,且品質得到認可,同時完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。其次,該閘閥采用陶瓷球機構,具有良好的抗沖擊和震動性能,保證可使用 25 萬次,且檢修方便,維護成本較低。它無 Particle 產生,采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產生。此外,它還具有屏蔽保護功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm,能有效防止粉末侵入閥內,壽命為半永久性。其保護環(huán)設計也很獨特,Protecrion Ring 通過流速上升設計防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,三重防護閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))等設備。HVA閘閥ALUMINUM GATE VALVE

高壓閘閥只許介質單向流動,安裝時有方向性。它的結構長度大于閘閥,同時流體阻力大。HVA閘閥ALUMINUM GATE VALVE

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve,-產品范圍:2.5“~10”-壓力控制-使用步進電機Stepper Motor GV,- Product Range : 2.5” ~ 10”- Pressure Controlled- Using Stepper Motor,用步進電機/控制器操作閥門-通過步進電機/控制器精確控制閥門的壓力-根據產品的不同,控制器可以安裝在客戶需要的地方,微泰,步進電機插板閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。微泰步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。HVA閘閥ALUMINUM GATE VALVE