微泰半導(dǎo)體閘閥的特點:已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認(rèn)可,已完成對半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證。1,采用陶瓷球機(jī)構(gòu),抗沖擊和震動,保證使用25萬次,檢修方便,較低維護(hù)成本。2,無Particle(顆粒)產(chǎn)生,采用陶瓷球無腐蝕和顆粒產(chǎn)。3,屏蔽保護(hù):屏蔽式保護(hù)功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm,可防止粉末侵入閥內(nèi),壽命為半永久性。4,保護(hù)環(huán):Protecrion Ring通過流速上升設(shè)計防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。真空閘閥屬于真空隔離閥類別。但是,它也有可用于控制氣流。高壓閘閥蝶形控制閥
微泰,超高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? 蝕刻? Diffusion?CVD等設(shè)備上。期特點是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管(AM350或STS316L)、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:銅墊圈、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。晶圓閘閥插板閥用真空閘閥時,應(yīng)考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護(hù)要求等因素。
微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu),通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機(jī)自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力??梢栽诟哒婵窄h(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?/p>
微泰半導(dǎo)體閘閥的特點:插板閥主滑閥的球機(jī)構(gòu)方式-在量產(chǎn)工藝設(shè)備上的性能驗證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,陶瓷和金屬觸摸驅(qū)動無顆粒-已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認(rèn)可,已完成對半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證,而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅(qū)動產(chǎn)生大量顆粒。使用鋼陶瓷球,與金屬摩擦?xí)r不會損壞,金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生Particle,半永久板簧(SUS鋼板)的應(yīng)用確保閥門驅(qū)動同步性,采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾伞N⑻┌雽?dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。真空閘閥的密封裝置確保關(guān)閉時的高真空完整性,防止泄漏并維持腔室內(nèi)的真空壓力。
微泰,定制大型轉(zhuǎn)移閥,定制大型輸送閥,?應(yīng)用:大型涂層系統(tǒng)。定制大型轉(zhuǎn)移閥,定制大型輸送閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸:(內(nèi)徑)80×500、(內(nèi)徑)100×400、(內(nèi)徑)200×1800、(內(nèi)徑)650×1050等法蘭類型:定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門上的壓差≤1000 mbar、泄漏率:泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù):10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:材料:不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6 ~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽N⑻?,高壓閘閥能應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD。真空閘閥英菲尼亞半導(dǎo)體
控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。高壓閘閥蝶形控制閥
微泰,傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工,半導(dǎo)體加工,可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計? 使用維修配件工具包易于維護(hù)? 應(yīng)用:半導(dǎo)體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下:閘門密封類型:傳輸閥 (I-MOTION)、右動轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式:焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間:≤ 2 sec、工作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差:≤ 30 mbar、開啟時壓差: ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼:< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁:< 1×10 -5 mbar ?/秒、維護(hù)前可用次數(shù): ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽8邏洪l閥蝶形控制閥