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極高真空閘閥楔式閘閥

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-06-30

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。有-屏蔽閘閥:防止氣體和粉末進(jìn)入閥內(nèi)的隔離閥,-三重防護(hù)閘閥:屏蔽1和2+保護(hù)環(huán)的3重隔離系統(tǒng),還有步進(jìn)電機(jī)閘閥和鋁閘閥,屏蔽門閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;三級預(yù)防閘閥,三重防護(hù)閘閥:產(chǎn)品范圍:4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?包括屏蔽功能;步進(jìn)電機(jī)閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?包括屏蔽功能;步進(jìn)電機(jī)閘閥;鋁閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓氣動?維護(hù)前可用次數(shù):10萬次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。閘閥高度大,啟閉時(shí)間長。閘板的啟閉行程較大,升降是通過螺桿進(jìn)行的。極高真空閘閥楔式閘閥

閘閥

微泰,三(多)位閘閥、三位閘閥、多位閘閥應(yīng)用于? 蒸發(fā)?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴(kuò)散?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。其特點(diǎn)是*3個(gè)位置功能-閥門打開,閥門關(guān)閉,第3位置*設(shè)備可通過連接到閥門的9 Pin D-Sub來讀取閥門狀態(tài)*手動和氣動閥門組合*應(yīng)用:需要壓力控制的任何其他過程*應(yīng)用:需要壓力控制的地方。三位閘閥、多位閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸:2.5英寸~ 12英寸、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績超真空閘閥法蘭閘閥微泰高壓閘閥的特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵。

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微泰,控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材質(zhì):不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 帶步進(jìn)電機(jī)的集成壓力控制器? 應(yīng)用:需要壓力控制和隔離的地方??刂葡到y(tǒng)閘閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸、材料:閥體(STS304)/機(jī)構(gòu)STS304、STS420、饋通:旋轉(zhuǎn)饋通、執(zhí)行器:步進(jìn)電機(jī)、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護(hù)前可用次數(shù):100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置:任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。

微泰,大閘閥、大型閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸(內(nèi)徑):16? ~ 30?、 法蘭型:ISO、JIS、ASA 、饋通:Viton O-Rin、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間:可調(diào)節(jié)、工作壓力范圍:1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護(hù)前可用次數(shù):10,000 ~ 100,000次、開啟時(shí)壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。 閘閥的結(jié)構(gòu)緊湊,閥門剛性好,通道流暢,流阻數(shù)小,密封面采用不銹鋼和硬質(zhì)合金,使用壽命長。

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微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,這里介紹一下閥門控制器-主控制器(Valve Controller Introduction)1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,開放/關(guān)閉速度LCD顯示;2,當(dāng)閥門或泵錯誤時(shí),燈點(diǎn)亮:3,自動關(guān)閉功能-防止泵跳閘中的逆流;4,有閥門開關(guān)位置的信號輸出信號;5,鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進(jìn)行快速操作;6,無噪音,功耗低;7,歷史管理-打開/關(guān)閉/泵關(guān)閉等;8,UPS功能(1秒),微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。微泰,高壓閘閥應(yīng)用于? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。HV閘閥蝶閥

介質(zhì)可向兩側(cè)任意方向流動,易于安裝。閘閥通道兩側(cè)是對稱的。極高真空閘閥楔式閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁O高真空閘閥楔式閘閥