微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：閥門(mén)驅(qū)動(dòng)部分的所有滾子和軸承都進(jìn)行了防護(hù)處理，形成屏蔽和保護(hù)環(huán)（Shield Blocker 和 Protection Ring）用三重預(yù)防方式切斷粉末（Powder），延長(zhǎng)閥門(mén)驅(qū)動(dòng)和使用壽命。三重預(yù)防驅(qū)動(dòng)方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內(nèi)部，有三重保護(hù)驅(qū)動(dòng)保護(hù)環(huán)，長(zhǎng)久延長(zhǎng)GV壽命的Shield方法-供應(yīng)給海外半導(dǎo)體T公司、M公司和I公司Utility設(shè)備。擋板與閥體的距離小于1mm，阻擋內(nèi)部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料，考慮了復(fù)原力，并采用Viton粉末熱壓制成。三重保護(hù)保護(hù)環(huán)的主要功能說(shuō)明-AL材料的重量減輕和保護(hù)環(huán)內(nèi)部照明的改善-保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速的增加-三元環(huán)應(yīng)用確保驅(qū)動(dòng)性能。閘閥的結(jié)構(gòu)比較簡(jiǎn)單，一般由閥體、閥座、閥桿、閘板、閥蓋、密封圈幾部分組成。小型閘閥Global Foundries

微泰，鋁閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*不論什么工藝的設(shè)備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應(yīng)用:隔離泵。鋁閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 10英寸、閥體：AL6061 (Anodizing)、機(jī)械裝置：AL6061 (Anodizing)、閥門(mén)：O型圈(VITON)、真空密封：O型圈(VITON)、響應(yīng)時(shí)間≤ 3 sec、驅(qū)動(dòng)器：氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍：< 1×10-10 mbar ?/sec、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、初次維護(hù)前可用次數(shù)100,000次、閥體溫度≤ 120 °執(zhí)行機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。可替代VAT閥門(mén)。小型閘閥Global Foundries閘閥形體簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)長(zhǎng)度短，制造工藝性好，適用范圍廣。

微泰控制系統(tǒng)閥門(mén)是安裝在半導(dǎo)體CVD設(shè)備中的主要閥門(mén)?？刂葡到y(tǒng)閥門(mén)起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用，通過(guò)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開(kāi)啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門(mén)分為三類(lèi)：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥使用氣動(dòng)控制操作。一、控制系統(tǒng)閘閥?？刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值，通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過(guò)閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過(guò)程。蝶閥通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)自動(dòng)控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門(mén)。它在閥門(mén)的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。

微泰，定制大型轉(zhuǎn)移閥，定制大型輸送閥，?應(yīng)用：大型涂層系統(tǒng)。定制大型轉(zhuǎn)移閥，定制大型輸送閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸：（內(nèi)徑）80×500、（內(nèi)徑）100×400、（內(nèi)徑）200×1800、（內(nèi)徑）650×1050等法蘭類(lèi)型：定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門(mén)密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門(mén)上的壓差≤1000 mbar、泄漏率：泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：材料：不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6 ~ 8 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。在機(jī)組的給水、主汽、凝結(jié)水、抽汽、空氣、循環(huán)冷卻水、軸冷水等系統(tǒng)中，均安裝有許多閘閥。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門(mén)。它在閥門(mén)的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門(mén)狀態(tài)，并可用于具有不同法蘭類(lèi)型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置控制，用戶可直接控制閘門(mén)的開(kāi)啟和關(guān)閉，以調(diào)節(jié)壓力。微泰半導(dǎo)體多定位閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁樘囟ǖ恼婵障到y(tǒng)和工藝選擇適當(dāng)尺寸和類(lèi)型的真空閘閥對(duì)于確保高效運(yùn)行和可靠的真空完整性至關(guān)重要。超高真空閘閥Global Foundries

閘閥按閘板結(jié)構(gòu)形式分為單閘板和雙閘板兩種。小型閘閥Global Foundries

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，插板閥，氣動(dòng)（鎖定）閘閥和手動(dòng)（鎖定）閘閥-按產(chǎn)品尺寸和法蘭類(lèi)型排列-ID為1.5英寸至30英寸，ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現(xiàn)有手動(dòng)閘閥的鎖定功能（Exist Manual GV of Locking Function）。微泰氣動(dòng)（鎖定）閘閥和手動(dòng)（鎖定）閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。小型閘閥Global Foundries