化學(xué)拋光是金屬表面通過有規(guī)則溶解達(dá)到光亮平滑。在化學(xué)拋 光過程中，鋼鐵零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解，且前者要強(qiáng)于后者。由于零件表面微觀的不一致性，表面微觀凸起部位優(yōu)先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始終同時(shí)進(jìn)行，只是其速率有差異，結(jié)果使鋼鐵零件表面粗糙度得以整平，從而獲得平滑光亮的表面。拋光可以填充表面毛孔、劃痕以及其它表面缺陷，從而提高疲勞阻力、腐蝕阻力 。電化學(xué)拋光也稱電解拋光。電解拋光是以被拋工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時(shí)浸入到電解槽中，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽極溶解，從而使工件表面光亮度增大，達(dá)到鏡面效果

為了進(jìn)行化學(xué)拋光，必須使零件表面的凸部比凹部?jī)?yōu)先溶解，因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個(gè)階段來認(rèn)識(shí)。階段是化學(xué)拋光時(shí)金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當(dāng)于光波長(zhǎng)的范圍?？蓪⒁浑A段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，不需要什么特殊設(shè)備，只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。如果用細(xì)薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。有些非導(dǎo)體材料也可以用化學(xué)拋光，非導(dǎo)體嵌鑲的試樣也可以直接拋光?；瘜W(xué)拋光也可以處理形狀比較復(fù)雜的零件。

立采表面處理

電解拋光的特點(diǎn)是﹕

①拋光的表面不會(huì)產(chǎn)生變質(zhì)層﹐無附加應(yīng)力﹐并可去除或減小原有的應(yīng)力層。

②對(duì)難于用機(jī)械拋光的硬質(zhì)材料﹑軟質(zhì)材料以及薄壁﹑形狀復(fù)雜﹑細(xì)小的零件和制品都能加工。

③拋光時(shí)間短﹐而且可以多件同時(shí)拋光﹐生產(chǎn)效率高。

④電解拋光所能達(dá)到的表面粗糙度與原始表面粗糙度有關(guān)﹐一般可提高兩級(jí)。但由于電解液的通用性差﹐使用壽命短和強(qiáng)腐蝕性等缺點(diǎn)﹐電解拋光的應(yīng)用范圍受到限制。電解拋光主要用于表面粗糙度小的金屬制品和零件﹐如反射鏡﹑不銹鋼餐具﹑裝飾品﹑注射針﹑彈簧﹑葉片和不銹鋼管等﹐還可用于某些模具(如膠木模和玻璃模等)和金相磨片的拋光。

電流通過物質(zhì)而引起化學(xué)變化的過程?；瘜W(xué)變化是物質(zhì)失去或獲得電子(氧化或還原)的過程。電解過程是在電解池中進(jìn)行的。電解池是由分別浸沒在含有正、負(fù)離子的溶液中的陰、陽兩個(gè)電極構(gòu)成。電流流進(jìn)負(fù)電極(陰極)，溶液中帶正電荷的正離子遷移到陰極，并與電子結(jié)合，變成中性的元素或分子；帶負(fù)電荷的負(fù)離子遷移到另一電極(陽極)，給出電子，變成中性元素或分子。將電能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能的裝置叫電解池。將直流電通過電解質(zhì)溶液或熔體，使電解質(zhì)在電極上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，以制備所需產(chǎn)品的反應(yīng)過程。電解過程必須具備電解質(zhì)、電解槽、直流電供給系統(tǒng)、分析控制系統(tǒng)和對(duì)產(chǎn)品的分離回收裝置。電解過程應(yīng)當(dāng)盡可能采用較低成本的原料，提高反應(yīng)的選擇性，減少副產(chǎn)物的生成，縮短生產(chǎn)工序，便于產(chǎn)品的回收和凈化。電解過程已廣泛用于有色金屬冶煉、氯堿和無機(jī)鹽生產(chǎn)以及有機(jī)化學(xué)工業(yè)。中山市小欖立采金屬表面處理廠是一家專業(yè)的不銹鋼電解拋光表面處理的企業(yè)。本廠從事五金表面處理五年，占地面積800多平方米。