許多用戶在購買時沒有從***角度考慮靶材。以下是采購靶材時應(yīng)注意的事項(xiàng)。

　　對于所有金屬，純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，這對后續(xù)產(chǎn)品薄膜的性能有很大影響。然而，靶材的純度要求對于每種產(chǎn)品都是不同的。

　　第二個是靶材的雜質(zhì)含量。經(jīng)過一系列靶材過程后，固體中的靶材雜質(zhì)以及孔隙中的氧氣和水蒸氣是沉積薄膜的主要污染源。由于用途不同，不同用途對靶材雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)中使用的純鋁和鋁合金靶材對堿金屬含量和放射性元素含量有特殊要求。

　　密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。在靶材的工藝過程中，為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射膜的性能，一般要求靶材必須具有高密度。因?yàn)榘胁牡闹饕卣髅芏葘R射速率有很大的影響，并且影響薄膜的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)。靶材密度越高，薄膜的性能越好。

　　，分析了晶粒度和晶粒度分布。通常靶材是多晶結(jié)構(gòu)，并且晶粒尺寸可以從微米到毫米。對于相同的靶材，細(xì)晶粒靶材的濺射速率比粗晶粒靶材快；晶粒度差異?。ň鶆蚍植迹┑陌袨R射沉積薄膜的厚度分布更均勻。